北京瑞弛 科研实验材料溅射靶材钴铌锆合金 CoNbZr

钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯，再经加工得到的产品，具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜，与多晶态薄膜，主要是钴Co，钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜，其中的非磁性隔离层是铜Cu等贵金属材料形成的三明治膜层，具有较薄的总体厚度(10nm左右)，较大的磁阻效应(10%以上)，稳定的单畴态，优越的翻转特性，翻转场均匀性偏差<8%，是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。

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